中国的光刻技术获得了半满的杯子，而不是半空的杯子

随着北京努力提高高端芯片制造设备的自给自足，中国最近公布的半导体光刻技术进步遭到了广泛质疑。但看看中国已经取得了多大的进步，可能比竞争对手因中国在关键科技领域仍需走多远而沾沾自喜更有意义。

光刻设备用于将电路图案从光掩模（模板）转移到半导体生产线上的晶圆上。这是中国创建独立自主企业必须克服的首要技术障碍…