[News] 中国深紫外技术取得突破：可生产 8 纳米芯片

中国工业和信息化部（MIIT）最近宣布了一项重大技术突破：开发出能够生产8纳米及以下芯片的深紫外（DUV）光刻机。目前，该技术正在推广应用。

工信部9日在官网发布《重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》通知，要求地方加强统筹协调，引导地方政府制定本地区、本部门、本部门的重大技术装备推广应用指导目录。